事件：

公司發布2023 年半年報，營業收入10.04 億元，同比增長91.83%；歸母凈利潤1.25 億元，同比增長15.22%；扣非歸母凈利潤0.65 億元，同比增長32.65%。

點評：

(資料圖片僅供參考)

公司一直在高端半導體專用設備領域持續深耕，并重點聚焦薄膜沉積設備的研發和產業化應用。公司面向國內集成電路芯片制造技術發展及市場需求，充分發揮公司在研發團隊、技術儲備、客戶資源及售后服務等方面的優勢，緊抓國內半導體產業高速發展的市場機遇，堅持以技術和產品創新驅動業務發展，持續保持新產品、新工藝及新技術的研發和投入，增強產品市場競爭力，同時，持續強化公司運營管理，促進公司持續、穩健、快速的發展，在經營業績、產品研發、市場銷售等諸多方面取得了突出的進展。

公司PECVD 設備型號不斷完善。2023 年上半年公司PECVD 設備作為主打產品，持續保持競爭優勢，為客戶提供高性能的介質薄膜材料，同時，提供不同類型的高產能平臺（包括PF-300T、PF-300T eX、NF-300H 等平臺），以匹配不同客戶不同工藝的性能要求及產能需求。公司在客戶產線驗證通過的薄膜種類及性能指標類型持續增加，工藝覆蓋面不斷提升，持續獲得批量訂單和批量驗收，現已廣泛應用于國內集成電路制造產線。

2023 年上半年，在PECVD（PF-300T、PF-300T eX）產品方面，公司不斷擴大通用介質薄膜材料工藝及先進介質薄膜材料工藝的應用覆蓋面，并持續獲得客戶訂單、通過客戶產業化驗證、擴大量產規模。截至2023 年二季度末，PECVD 通用介質薄膜材料（包括SiO2、SiN、TEOS、SiON、SiOC、FSG、BPSG、PSG 等）和先進介質薄膜材料（包括ACHM、LoKⅠ、LoKⅡ、ADCⅠ、HTN、a-Si 等）均已實現產業化應用。

公司推出的PECVD（NF-300H）型號設備已實現產業化應用，可以沉積Thick TEOS等介質材料薄膜。2023 年上半年，公司持續獲得客戶訂單，并出貨至客戶端進行驗證，驗證進展順利。

公司ALD 設備不斷取得新進展。2023 年上半年，公司PE-ALD（PF-300T Astra）設備在客戶端驗證進展順利，獲得了原有客戶及新客戶訂單，并出貨至不同客戶進行產業化驗證；PE-ALD（NF-300H Astra）設備實現首臺產業化應用，取得了突破性進展，該設備主要應用于沉積較厚的PE-ALD 薄膜，具有高產能和低成本的優勢。

此外，公司持續拓展PE-ALD 薄膜種類及工藝應用。

2023 年上半年，公司Thermal-ALD（PF-300T Altair、TS-300 Altair）持續獲得原有客戶及新客戶訂單，并出貨至不同客戶端進行產業化驗證，驗證進展順利，可以沉積Al2O3 等多種金屬化合物薄膜材料。此外，公司持續拓展Thermal-ALD 薄膜種類及工藝應用。

公司SACVD 設備客戶驗證進展順利。2023 年上半年，公司SACVD 產品持續提升產品競爭力，積極拓展應用領域，持續獲得客戶訂單及產業化驗證。截至2023年二季度末，公司可實現SA TEOS、BPSG、SAF 薄膜工藝沉積的SACVD 設備均通過客戶驗證，在國內集成電路制造產線的量產規模逐步提升。

盈利預測、估值與評級：公司PECVD 卡位優勢明顯，ALD、SACVD 及HDPCVD將逐步放量，我們維持公司2023-2025 年的歸母凈利潤預測為5.66、8.51、11.56億元，對應的PE 值為76x、50x 和37x。考慮到公司是國內半導體CVD 設備龍頭，充分受益于下游國產晶圓廠擴建帶來的設備需求，我們維持公司“增持”評級。

風險提示：下游需求不及預期風險；新產品研發或客戶導入進度不及預期風險；行業競爭加劇風險。